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JKWDR-200型科研級溫等靜壓機是一款技術成熟的溫等靜壓機產(chǎn)品，高壓腔采用性能優(yōu)良的3Cr13 不銹鋼鍛件并探傷，設計數(shù)據(jù)參數(shù)，再用電腦輔助設計軟件進行模擬受力分析校驗，理論數(shù)據(jù)結合經(jīng)驗數(shù)據(jù)敲定最終設計方案。確保設計的科學、合理、準確； 是高等院校，研究機構和生產(chǎn)單位的重要設備。

PVDF（聚偏二氟乙烯）薄膜的極化處理是賦予其壓電、鐵電等功能特性的關鍵步驟，極化裝置的設計需滿足高壓電場、溫度控制等條件，以促使薄膜內(nèi)部偶極子定向排列。以下是 PVDF 薄膜極化裝置的核心組成、工作原理及關鍵參數(shù)的詳細說明：

JKZC-ST200型小型金剛石線切割機專為材料研究人員設計，用于脆性材料分析樣品的精密切割，例如晶體、陶瓷、玻璃、耐火材料、巖樣、礦樣、建筑材料、金屬、塑料、PCB 等， 尤其適合于超薄樣品的精密切割，最薄的樣品厚度可以達到 0.1 毫米。產(chǎn)品已經(jīng)通過 CE 認證，遠銷世界各地的研究院所、大專院校、大企業(yè)的研究部門以及與材料分析有關的廣大中小企業(yè)。

小型程控蒸發(fā)鍍膜儀JKZC-DM1700是一款小型臺式程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀，可以設定程序，精確控制溫度200℃～1500℃（或者1200℃～1700℃），樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜和有機物薄膜。

JKZC-YP200型32工多路壓片機是一款針對于同時壓制32個樣品和對32個樣品進行退模，大大提高了實驗效率。用特定的模具可以壓制成各種各樣的片,柱及異型體,組合體等進行科學研究，應用非常廣泛,使用簡單、方便、可靠。目前是國內(nèi)高等院校進行自行科學制樣研究的重要輔助工具。

JKZC-STC600高 真空雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄 膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄 膜等。JKZC-STC600 雙靶磁控濺射儀配備有兩個靶槍和兩個電源，一個射頻電源用于非導電材料的濺射鍍膜，一個直流電源用于導電材料的濺射鍍膜，可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。