PVDF（聚偏二氟乙烯）薄膜的極化處理是賦予其壓電、鐵電等功能特性的關(guān)鍵步驟，極化裝置的設(shè)計需滿足高壓電場、溫度控制等條件，以促使薄膜內(nèi)部偶極子定向排列。以下是 PVDF 薄膜極化裝置的核心組成、工作原理及關(guān)鍵參數(shù)的詳細(xì)說明：

JKZC-ST200型小型金剛石線切割機(jī)專為材料研究人員設(shè)計，用于脆性材料分析樣品的精密切割，例如晶體、陶瓷、玻璃、耐火材料、巖樣、礦樣、建筑材料、金屬、塑料、PCB 等， 尤其適合于超薄樣品的精密切割，最薄的樣品厚度可以達(dá)到 0.1 毫米。產(chǎn)品已經(jīng)通過 CE 認(rèn)證，遠(yuǎn)銷世界各地的研究院所、大專院校、大企業(yè)的研究部門以及與材料分析有關(guān)的廣大中小企業(yè)。

小型程控蒸發(fā)鍍膜儀JKZC-DM1700是一款小型臺式程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀，可以設(shè)定程序，精確控制溫度200℃～1500℃（或者1200℃～1700℃），樣品臺可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜和有機(jī)物薄膜。

JKZC-YP200型32工多路壓片機(jī)是一款針對于同時壓制32個樣品和對32個樣品進(jìn)行退模，大大提高了實驗效率。用特定的模具可以壓制成各種各樣的片,柱及異型體,組合體等進(jìn)行科學(xué)研究，應(yīng)用非常廣泛,使用簡單、方便、可靠。目前是國內(nèi)高等院校進(jìn)行自行科學(xué)制樣研究的重要輔助工具。

JKZC-STC600高 真空雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄 膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄 膜等。JKZC-STC600 雙靶磁控濺射儀配備有兩個靶槍和兩個電源，一個射頻電源用于非導(dǎo)電材料的濺射鍍膜，一個直流電源用于導(dǎo)電材料的濺射鍍膜，可選配強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。

該系列JKZC-RY600型超高溫智能數(shù)控?zé)釅簷C(jī)使用于壓制成型各類橡膠模型制品及非模型制品的主要設(shè)備，也可用于壓制各類熱固性塑料及發(fā)泡性橡塑制品。具有獨立的動力機(jī)構(gòu)和電器系統(tǒng)，采用按鈕集中控制。工作壓力、 加熱溫度均可在一定范圍內(nèi)調(diào)節(jié)。本機(jī)型分手動和半自動兩種。